核心技术
公司自成立以来,坚持自主研发和自主创新的发展原则,不断突破高性能 CMOS 图像传感器关键领域技术 难关,在像素设计、电路设计、工艺开发等方面形成了一系列具有完全自主知识产权的核心技术。
全局快门像素

实现整个像素面阵同时开始曝光、同时结束曝光。

电荷域全局快门像素新结构,实现单电子级读出噪声。

双微透镜阵列设计,有效优化快门效率。

大靶面、超高分辨率

根据大靶面芯片特点进行整体模块化设计,突破单次24 mm x 32 mm的光刻极限。

针对超高分辨率图像传感器靶面大的特点,突破二维无缝拼接设计,实现大靶面、超高分辨率CMOS图像传感器的研制。

低噪声、高速、HDR技术

采用CMS技术,实现单电子读出噪声。

掌握高速电路设计方法,大幅提升芯片传输速率,最大数据率可达1 Tbps。

采用双增益电路设计,实现单幅>100 dB的动态范围。

TDI图像传感器设计技术

在弱光环境下,可实现高速扫描,并获取高的图像质量,系统检测效率更高。

相同检测速度下,相较于普通线阵传感器,可使用更低的照明亮度,系统能耗更低。

多用于半导体量测,PCB、显示屏检测和高通量基因测序等行业。

背照式工艺

自主开发的背照式图像传感器技术,峰值量子效率可达95%以上。

谱段范围可拓宽至——软X射线、紫外到近红外。

具备低读出噪声和高灵敏度。

堆栈式芯片设计

对像素和电路进行独立设计,通过铜互联工艺将像素晶圆和电路晶圆绑定,实现堆栈式芯片研制。

继承了背照式芯片的全部优势,还具有尺寸小、读出速率块、集成度高等特点。

基于堆栈式结构设计,实现高性能专业影像级和TOF图像传感器研制。

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